三维表面形貌仪 采用了**光学系统,可通过非破坏观察法生产高画质的图像并进行**的3D测量,可以满足不同样品的观测需求
NanoFocus2000三维表面测量仪光学轮廓仪/三维表面形貌仪/三维表面轮廓仪(纳米级)是用于表面结构测量和表面形貌分析的一款检测设备
采用垂直扫描白光干涉和移相干涉技术，实现对样品表面粗糙度、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征的纳米级三维精密测量。广泛应用于半导体工艺、航空航天、太阳能电池工艺、材料表面工程、MEMS、超精密加工等领域。
三维表面测量仪/三维表面形貌仪NanoFocus2000(纳米级) 产品特点：
测量精度重复性达到世界较高水平
关键硬件采用美国、德国、日本等
配备进口第三方校准标准件
高性价比微观形貌测量设备
迅捷、高效的上等售后服务
覆盖范围广
兼容多种测量和观察需求
保护性
非接触式光学干涉测量
可操作性
“一键式”操作更简单、高效
智能化
特殊形状智能计算特征参数
个性化
定制化测试报告
NanoFocus2000三维表面微观形貌检测仪主要由精密载物台、照明系统、光学干涉成像系统、实现移相运动的微位移系统、图像采集系统及图像数据处理系统等组成。整个检测仪放置在气浮抗振平台上。载物台用于安放被测件，同时通过倾斜和XY二维平移调整使被测面**定位于感兴趣的区域；光源及照明系统提供给被测面均匀又充分的反射式照明；干涉成像系统采用Mirau干涉物镜结构获取被测表面干涉图像；采用压电陶瓷传感器（PZT）实现微位移控制；通过CCD与自主开发的软件系统采集并处理干涉图像，获得被测面的相位信息进而得到表面轮廓。
应用领域：半导体工艺、MEMS器件表征、精密机械加工、LED、太阳能、生物医学等。
三维表面测量仪/三维表面形貌仪NanoFocus2000(纳米级) 主要指标：
CCD分辨率：像素1280x960
测试模式：PSI + VSI 检测模式
纵向分辨率：＜0.1nm
RMS重复性：＜0.01nm，1σ
台阶测量：准确度≤0.75％
台阶高重复性≤0.1％，1σ
高清晰无限远成像系统，白光高效LED,光谱滤光
Nikon干涉物镜配置2.5x，5x，10x，20x，50x
200mm手动样品台 （XY高精度）+ 倾斜±6°
三维表面测量仪/三维表面形貌仪NanoFocus2000(纳米级) 分析及控制软件：
三维分析处理迅速，结果实时更新
缩放、定位、平移、旋转等三维图像显示
自主设定测量阈值，三维处理自动标注
测量模式可根据需求自由切换
可创建简单工作流程，简化重复工作
三维图像支持高清打印
可进行软件在线升级和远程支持服务